EUV-Lithographie – Chipfertigung mit extrem ultraviolettem Licht

Ohne Rechenleistung keine Digitalisierung: Heute hat allein ein
Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969
die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen
kaum fingernagelgroßen Mikrochip, auf dem sich mehr als zehn
Milliarden Transistoren befinden. Neue Technologien wie Künstliche
Intelligenz, autonomes Fahren, 5G, Smart Home oder Industrie 4.0
benötigen nochmals deutlich leistungsfähigere Mikrochips. Möglich
werden diese durch ein neues Herstellungsverfahren, das die Grenzen
der Optik verschiebt und einige Superlative vereint: die
EUV-Lithographie, die Chipfertigung mit extrem ultraviolettem
Licht. Für seinen maßgeblichen Beitrag an der Entwicklung des
Verfahrens ist das Fraunhofer IOF zusammen mit der ZEISS AG und der
Trumpf AG für den Deutschen Zukunftspreis 2020 nominiert.
Veröffentlicht: November 2020